Теоретическое исследование свойств нанопленок состава FeSi2, а также свойств области интерфейса кремний/силицид железа | Научно-инновационный портал СФУ

Теоретическое исследование свойств нанопленок состава FeSi2, а также свойств области интерфейса кремний/силицид железа

Перевод названия: Theoretical Investigation of FeSi2 Nanofilms and Interface Silicon/Iron Silicide

Тип публикации: статья из журнала

Год издания: 2011

Ключевые слова: силициды, Silicide, surface physical chemistry, reconstruction, Ab-initio calculations, silicon, физическая химия поверхности, реконструкция, ab-initio расчеты, кремний

Аннотация: В рамках DFT-расчетов проведено моделирование электронной и геометрической структуры -фазы дисилицида железа FeSi2, в том числе под действием изотропного и одноосного давле- ния. Обнаружено необычное изменение диэлектрической щели под действием давления в сторону увеличения. Исследована электронная и геометрическая структура нанопленок FeSi2, а так- же области интерфейса кремний/силицид железа. Вычислено, что такие нанопленки обладают поверхностной проводимостью с реконструкцией поверхностных слоев. Показано, что при кон- такте (001) поверхности кремния с -фазой FeSi2 возможно образование совершенной и резкой области перехода, также обладающей поверхностной проводимостью, определяемой в области энергий, близких к уровню Ферми, в основном вкладом от слоев приповерхностного силицида. Electronic and geometric structure of -phase of crystal FeSi2 is investigated by DFT calculations at different isotropic and axial pressures. It is revealed unusial increasing of the dielectric gap under the pressures. Also it is investigated electronic and geometric structure of FeSi2 nanofilms as well as sili- con/iron silicide interface. It is defined that these nanofilms have surface reconstruction and correspond- ing conductivity. It is shown that contact of (001) silicon surface and corresponding surface of ?FeSi2 silicide lead to narrow perfet interface having conductivity near fermi level mainly due to contribution of the silicide surface layers.

Ссылки на полный текст

Издание

Журнал: Журнал Сибирского федерального университета. Серия: Математика и физика

Выпуск журнала: Т. 4, 2

Номера страниц: 182-190

ISSN журнала: 19971397

Место издания: Красноярск

Издатель: Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования Сибирский федеральный университет

Авторы

Вхождение в базы данных

Информация о публикациях загружается с сайта службы поддержки публикационной активности СФУ. Сообщите, если заметили неточности.

Вы можете отметить интересные фрагменты текста, которые будут доступны по уникальной ссылке в адресной строке браузера.