Separation of the electron localization and interaction in bismuth film resistance

Тип публикации: статья из журнала

Год издания: 1982

Идентификатор DOI: 10.1016/0038-1098(82)90292-7

Ссылки на полный текст

Издание

Журнал: Solid State Communications

Выпуск журнала: Т.44, 6

Номера страниц: 865-867

ISSN журнала: 00381098

Издатель: Elsevier Science Publishing Company, Inc.

Авторы

  • Kommik Y.F. (Physico-Technical Institute of Low Temperatures, UkrSSR Academy of Sciences)
  • Bukhshtab E.I. (Physico-Technical Institute of Low Temperatures, UkrSSR Academy of Sciences)
  • Butenko A.V. (Physico-Technical Institute of Low Temperatures, UkrSSR Academy of Sciences)
  • Andrievsky V.V. (Physico-Technical Institute of Low Temperatures, UkrSSR Academy of Sciences)

Вхождение в базы данных

  • РИНЦ (eLIBRARY.RU) (цитирований 24)
  • Ядро РИНЦ (eLIBRARY.RU)
  • Web of Science Core Collection
  • Scopus

Информация о публикациях загружается с сайта службы поддержки публикационной активности СФУ. Сообщите, если заметили неточности.

Вы можете отметить интересные фрагменты текста, которые будут доступны по уникальной ссылке в адресной строке браузера.