Издание
Журнал: MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING
Выпуск журнала: Vol. 72
Номера страниц: 52-59
ISSN журнала: 13698001
Место издания: OXFORD
Издатель: ELSEVIER SCI LTD
Персоны
- Grazhdannikov Sergey A. (Russian Acad Sci, Siberian Branch, Sobolev Inst Geol & Mineral, 3 Acad Koptyug Ave, Novosibirsk 630090, Russia)
- Krinitsyn Pavel G. (Russian Acad Sci, Siberian Branch, Sobolev Inst Geol & Mineral, 3 Acad Koptyug Ave, Novosibirsk 630090, Russia)
- Kurus Aleksey F. (Russian Acad Sci, Siberian Branch, Sobolev Inst Geol & Mineral, 3 Acad Koptyug Ave, Novosibirsk 630090, Russia; Russian Acad Sci, Nikolaev Inst Inorgan Chem, Siberian Branch, 3 Acad Lavrentiev Ave, Novosibirsk 630090, Russia)
- Isaenko Ludmila I. (Russian Acad Sci, Siberian Branch, Sobolev Inst Geol & Mineral, 3 Acad Koptyug Ave, Novosibirsk 630090, Russia; Novosibirsk State Univ, 2 Pirogova Str, Novosibirsk 630090, Russia; South Ural State Univ, 76 Lenin Ave, Chelyabinsk 454080, Russia)
- Yelisseyev Alexander P. (Russian Acad Sci, Siberian Branch, Sobolev Inst Geol & Mineral, 3 Acad Koptyug Ave, Novosibirsk 630090, Russia)
- Molokeev Maksim S. (Russian Acad Sci, Kirensky Inst Phys, Siberian Branch, Akademgorodok Str 50-38, Krasnoyarsk 660036, Russia; Far Eastern State Transport Univ, 47 Serysheva Str, Khabarovsk 680021, Russia; Siberian Fed Univ, 79 Svobodny Ave, Krasnoyarsk 660041, Russia)
Вхождение в базы данных
Информация о публикациях загружается с сайта службы поддержки публикационной активности СФУ. Сообщите, если заметили неточности.