Издание
Журнал: ХИМИЯ И ХИМИЧЕСКАЯ ТЕХНОЛОГИЯ В XXI ВЕКЕ
Выпуск журнала: 1
Номера страниц: 508-509
Место издания: Томск
Издатель: Национальный исследовательский Томский политехнический университет
Персоны
- Ионин В. А. (Сибирский Федеральный Университет)
- Казаченко А. С. (Сибирский Федеральный Университет)
- Белаш М. Ю. (Красноярский научный центр СО РАН)
- Сычев В. В. (Сибирский Федеральный Университет)
- Таран О. П. (Сибирский Федеральный Университет)
Вхождение в базы данных
Информация о публикациях загружается с сайта службы поддержки публикационной активности СФУ. Сообщите, если заметили неточности.