Издание
Журнал: Journal of Applied Physics
Выпуск журнала: Т. 119, № 16
Номера страниц: 163901
ISSN журнала: 00218979
Издатель: American Institute of Physics
Персоны
- Ney V. (Institut für Halbleiter- und Festkörperphysik,Johannes Kepler Universität)
- Venkataraman V. (Institut für Halbleiter- und Festkörperphysik,Johannes Kepler Universität)
- Henne B. (Institut für Halbleiter- und Festkörperphysik,Johannes Kepler Universität)
- Ney A. (Institut für Halbleiter- und Festkörperphysik,Johannes Kepler Universität)
- Ollefs K. (Fakultät für Physik,Universität Duisburg-Essen)
- Wilhelm F. (European Synchrotron Radiation Facility (ESRF),CS 40220)
- Rogalev A. (European Synchrotron Radiation Facility (ESRF),CS 40220)
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