Тип публикации: статья из журнала
Год издания: 2021
Идентификатор DOI: 10.1021/acsami.1c08036
Ключевые слова: atomic layer deposition, titanium oxynitride, copper doping, surface segregation, thin film
Аннотация: Copper-doped titanium oxynitride (TiNxOy) thin films were grown by atomic layer deposition (ALD) using the TiCl4 precursor, NH3 , and O-2 at 420 degrees C. Forming gas was used to reduce the background oxygen concentration and to transfer the copper atoms
Издание
Журнал: ACS APPLIED MATERIALS & INTERFACES
Выпуск журнала: Vol. 13, Is. 27
Номера страниц: 32531-32541
ISSN журнала: 19448244
Место издания: WASHINGTON
Издатель: AMER CHEMICAL SOC
Персоны
- Baron Filipp A. (KSC SB RAS, Kirensky Inst Phys, Fed Res Ctr, Krasnoyarsk 660036, Russia)
- Mikhlin Yurii L. (KSC SB RAS, Inst Chem & Chem Technol, Fed Res Ctr, Krasnoyarsk 660036, Russia)
- Molokeev Maxim S. (KSC SB RAS, Kirensky Inst Phys, Fed Res Ctr, Krasnoyarsk 660036, Russia; Siberian Fed Univ, Krasnoyarsk 660041, Russia)
- Rautskiy Mikhail (KSC SB RAS, Kirensky Inst Phys, Fed Res Ctr, Krasnoyarsk 660036, Russia)
- Tarasov Ivan A. (KSC SB RAS, Kirensky Inst Phys, Fed Res Ctr, Krasnoyarsk 660036, Russia)
- Volochaev Mikhail N. (KSC SB RAS, Kirensky Inst Phys, Fed Res Ctr, Krasnoyarsk 660036, Russia)
- Shanidze Lev (KSC SB RAS, Kirensky Inst Phys, Fed Res Ctr, Krasnoyarsk 660036, Russia)
- Lukyanenko Anna (KSC SB RAS, Kirensky Inst Phys, Fed Res Ctr, Krasnoyarsk 660036, Russia; Siberian Fed Univ, Krasnoyarsk 660041, Russia)
- Smolyarova Tatiana E. (KSC SB RAS, Kirensky Inst Phys, Fed Res Ctr, Krasnoyarsk 660036, Russia; Siberian Fed Univ, Krasnoyarsk 660041, Russia)
- Konovalov Stepan O. (Reshetnev Siberian State Univ Sci & Technol, Krasnoyarsk 660037, Russia)
- Zelenov Fyodor (Reshetnev Siberian State Univ Sci & Technol, Krasnoyarsk 660037, Russia)
- Tarasov Anton S.
- Volkov Nik
Вхождение в базы данных
Информация о публикациях загружается с сайта службы поддержки публикационной активности СФУ. Сообщите, если заметили неточности.