ELECTRON-MICROSCOPIC STUDY OF THE INTERACTION OF AN IMPLANTED IMPURITY WITH INTERSTITIAL SI ATOMS DURING ANNEALING | Научно-инновационный портал СФУ

ELECTRON-MICROSCOPIC STUDY OF THE INTERACTION OF AN IMPLANTED IMPURITY WITH INTERSTITIAL SI ATOMS DURING ANNEALING

Тип публикации: статья из журнала

Год издания: 1982

Ссылки на полный текст

Издание

Журнал: FIZIKA TVERDOGO TELA

Выпуск журнала: Vol. 24, Is. 2

Номера страниц: 384-389

ISSN журнала: 03673294

Место издания: MOSCOW

Издатель: MEZHDUNARODNAYA KNIGA

Персоны

Вхождение в базы данных

Информация о публикациях загружается с сайта службы поддержки публикационной активности СФУ. Сообщите, если заметили неточности.

Вы можете отметить интересные фрагменты текста, которые будут доступны по уникальной ссылке в адресной строке браузера.