Физико-химические основы взаимодействия присадочных компонентов с вольфрамовыми ангидридами | Научно-инновационный портал СФУ

Физико-химические основы взаимодействия присадочных компонентов с вольфрамовыми ангидридами

Перевод названия: Physicochemical Foundation of Interaction of Doped Components with Tungsten Anhydrides

Тип публикации: статья из журнала

Год издания: 2012

Ключевые слова: doped components, silicate solutions, mechanism, kinetics, interaction, tungsten anhydrides, technology, присадочные компоненты, силикатные растворы, механизм, кинетика, взаимодействие, вольфрамовые ангидриды, технология

Аннотация: Приведены физико-химические закономерности взаимодействия щелочного и кислого силикатных растворов присадочных компонентов с вольфрамовыми ангидридами. Предложенная технология пропитки промышленного синего оксида вольфрама кислым алюмосиликатным раствором позволяет получать вольфрамовую проволоку с высокой эффективностью. A physicochemical mechanism of interaction of alkaline and acid silicate solutions of doped components with tungsten anhydrides was presented. Introduced technology of impregnation of industrial tungsten blue oxide by acid silica-alumina solution allows producing tungsten wire with high efficiency.

Ссылки на полный текст

Издание

Журнал: Журнал Сибирского федерального университета. Серия: Техника и технологии

Выпуск журнала: Т. 5, 4

Номера страниц: 472-483

ISSN журнала: 1999494X

Место издания: Красноярск

Издатель: Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования Сибирский федеральный университет

Персоны

Вхождение в базы данных

Информация о публикациях загружается с сайта службы поддержки публикационной активности СФУ. Сообщите, если заметили неточности.

Вы можете отметить интересные фрагменты текста, которые будут доступны по уникальной ссылке в адресной строке браузера.