Исследование влияния технологических условий вакуумного напыления тонких нанокристаллических пленок на основные магнитные характеристики получаемых образцов | Научно-инновационный портал СФУ

Исследование влияния технологических условий вакуумного напыления тонких нанокристаллических пленок на основные магнитные характеристики получаемых образцов

Перевод названия: The study of influence the technological conditions of vacuum deposition of thin nanocrystalline films on major magnetic properties of produced samples

Тип публикации: статья из журнала

Год издания: 2013

Ключевые слова: анизотропия, magnetic anisotropy, Vacuum deposition, thin magnetic films, saturation magnetization, вакуумное напыление, тонкие магнитные пленки, намагниченность насыщения

Аннотация: С помощью сканирующего спектрометра ферромагнитного резонанса проведены исследования влияния технологических условий вакуумного напыления тонких магнитных пленок на основные характеристики получаемых образцов. Показана сильная корреляция между распределением осей легкого намагничивания пленок и неоднородностью распределения внешнего магнитного поля, приложенного во время напыления. Установлено, что небольшое отклонение угла падения атомов от нормали в процессе изготовления образцов также оказывает сильное влияние на магнитные характеристики тонких пленок. Using the scanning spectrometer of ferromagnetic resonance the study of influence the technological conditions of vacuum deposition of thin magnetic films on major properties of produced samples were performed. The strong correlation between easy directions of magnetic films and non-uniformity in distribution of external magnetic field, applied during the deposition, were shown. It was found that the small deviation of incidence angle of atoms from the normal during the producing of specimens also strong effected on magnetic parameters of thin films.

Ссылки на полный текст

Издание

Журнал: Решетневские чтения

Выпуск журнала: Т. 2, 17

Номера страниц: 7-9

ISSN журнала: 19907702

Место издания: Красноярск

Издатель: Сибирский государственный аэрокосмический университет имени академика М.Ф. Решетнева

Авторы

Вхождение в базы данных

Информация о публикациях загружается с сайта службы поддержки публикационной активности СФУ. Сообщите, если заметили неточности.

Вы можете отметить интересные фрагменты текста, которые будут доступны по уникальной ссылке в адресной строке браузера.