Эллипсометрический контроль параметров многослойных наноструктур Fe/Si в процессе роста : научное издание | Научно-инновационный портал СФУ

Эллипсометрический контроль параметров многослойных наноструктур Fe/Si в процессе роста : научное издание

Перевод названия: Ellipsometric control of parameters of multilayer Fe/Si nanostructures during growth

Тип публикации: статья из журнала

Год издания: 2018

Идентификатор DOI: 10.26732/2618-7957-2018-4-220-224

Ключевые слова: эллипсометрия, силициды железа, многослойные Fe/Si наноструктуры, ellipsometry, iron silicides, multilayer Fe/Si nanostructures

Аннотация: С использованием метода одноволновой лазерной эллипсометрии in situ проведено исследование процесса формирования многослойной структуры [Si/Fe57/Fe56]3/SiO2/Si(100). Были получены сведения об оптических и структурных свойствах данной структуры. Изменение морфологии поверхности растущих слоев и их оптических характеристик оказываются неидентичными для случаев осаждения железа на поверхность слоя кремния и осаждения кремния на поверхность слоя железа. Полученные профили оптических постоянных свидетельствуют об увеличении толщины переходных слоев, содержащих твердые растворы «железо-кремний» и силициды. Характер изменения оптических постоянных усложняется с каждым последующим слоем железа, осаждаемым на поверхность кремния. Поведение профилей n и k, соответствующих формированию кремниевых слоев, имеет более простой характер по сравнению с поведением подобных профилей железа. Эти профили имеют лишь некоторые особенности на начальных этапах роста и соответствуют формированию аморфных слоев кремния. Полученные данные согласуются с данными просвечивающей электронной микроскопии. Using in situ single-wave laser ellipsometry method, the formation of the [Si/Fe57/Fe56]3/SiO2/Si(100) multilayer structure was studied. Information about the optical and structural properties of this structure was obtained. The change in the morphology of the surface of the growing layers and their optical characteristics are not identical for the cases of iron deposition on the surface of the silicon layer and deposition of silicon on the surface of the iron layer. The refractive index and coefficient of absorption indicate an increase of the thickness of transition layers containing iron-silicon solid solutions and silicides. The nature of the change in the optical constants become more complicated with each subsequent iron layer deposited on the silicon surface. The behavior of n and k profiles corresponding to the formation of silicon layers is simpler than the behavior of similar iron profiles. These profiles have only some features at the initial stages of growth and correspond to the formation of amorphous silicon layers. The obtained data are consistent with the data of transmission electron microscopy.

Ссылки на полный текст

Издание

Журнал: Космические аппараты и технологии

Выпуск журнала: Т. 2, 4

Номера страниц: 220-224

ISSN журнала: 26187957

Место издания: Железногорск

Издатель: Ассоциация Технологическая платформа Национальная информационная спутниковая система

Авторы

Вхождение в базы данных

Информация о публикациях загружается с сайта службы поддержки публикационной активности СФУ. Сообщите, если заметили неточности.

Вы можете отметить интересные фрагменты текста, которые будут доступны по уникальной ссылке в адресной строке браузера.