Alternative Technology for Creating Nanostructures Using Dip Pen Nanolithography : материалы временных коллективов

Тип публикации: доклад, тезисы доклада, статья из сборника материалов конференций

Конференция: International Symposium on Nanostructures - Physics and Technology; Saint Petersburg, RUSSIA; Saint Petersburg, RUSSIA

Год издания: 2018

Идентификатор DOI: 10.1134/S1063782618050202

Аннотация: For modern microelectronics, at the present time, the technologies of consciousness smart structures play an important role, which can provide accuracy, stability and high quality of the structures. Submicron lithography methods are quite expensive and ha

Ссылки на полный текст

Издание

Журнал: SEMICONDUCTORS

Выпуск журнала: Vol. 52, Is. 5

Номера страниц: 636-638

ISSN журнала: 10637826

Место издания: NEW YORK

Издатель: MAIK NAUKA/INTERPERIODICA/SPRINGER

Авторы

  • Lukyanenko A.V. (Russian Acad Sci, Kirensky Inst Phys, Krasnoyarsk 660036, Russia; Siberian Fed Univ, Krasnoyarsk 660041, Russia)
  • Smolyarova T.E. (Russian Acad Sci, Kirensky Inst Phys, Krasnoyarsk 660036, Russia; Siberian Fed Univ, Krasnoyarsk 660041, Russia)

Вхождение в базы данных

Информация о публикациях загружается с сайта службы поддержки публикационной активности СФУ. Сообщите, если заметили неточности.

Вы можете отметить интересные фрагменты текста, которые будут доступны по уникальной ссылке в адресной строке браузера.