Modelling of ethanol pyrolysis in a commercial CVD reactor for growing carbon layers on alumina substrates

Тип публикации: статья из журнала

Год издания: 2019

Идентификатор DOI: 10.1016/j.ijheatmasstransfer.2019.118764

Ключевые слова: Chemical kinetics, Chemical vapour deposition, Computational modelling, Ethanol pyrolysis

Аннотация: Chemical vapour deposition (CVD) is widely used for preparation of pyrolytic carbons from various precursors. The prediction of deposition kinetics requires deep understanding of all transport phenomena involved. In this work, we perform the computational

Ссылки на полный текст

Издание

Журнал: International Journal of Heat and Mass Transfer

Выпуск журнала: Vol. 145

Номера страниц: 118764

ISSN журнала: 00179310

Издатель: Elsevier Ltd

Авторы

  • Minakov Andrey V. (Siberian Fed Univ, Svobodny 79, Krasnoyarsk 660041, Russia)
  • Simunin Mikhail M. (Siberian Fed Univ, Svobodny 79, Krasnoyarsk 660041, Russia)
  • Ryzhkov Ilya I. (Siberian Fed Univ, Svobodny 79, Krasnoyarsk 660041, Russia; Inst Computat Modelling SB RAS, Akademgorodok 50-44, Krasnoyarsk 660036, RussiaArticle)

Информация о публикациях загружается с сайта службы поддержки публикационной активности СФУ. Сообщите, если заметили неточности.

Вы можете отметить интересные фрагменты текста, которые будут доступны по уникальной ссылке в адресной строке браузера.